通過將光的頻率信息加以應用，人類創(chuàng)造了光譜分析技術(shù)。由于光譜分析具有精度高、測量范圍大、速度快和樣品用量少等優(yōu)點，已經(jīng)廣泛應用于科研和生產(chǎn)檢測領(lǐng)域。尤其隨著微納制造的飛速發(fā)展，光譜分析技術(shù)不斷深入各類生產(chǎn)制造與量檢測環(huán)節(jié)，已成為支撐集成電路和光電子芯片產(chǎn)業(yè)制造工藝的關(guān)鍵技術(shù)之一。
這個角逐激烈的賽道上，誕生于高校實驗室的國內(nèi)企業(yè)復享光學正異軍突起，憑借在深度光譜技術(shù)領(lǐng)域的積累，為等離子體刻蝕終點檢測、缺陷檢測、光學量測等環(huán)節(jié)帶來了高效的解決方案。去年，集微網(wǎng)曾在2021年IC World展會上對復享光學進行過一次詳細的專訪，而今年再次相逢在展會上，這個光學領(lǐng)域的創(chuàng)新者又會給我們帶來什么驚喜呢？集微網(wǎng)記者采訪到了復享光學首席發(fā)展官章煒毅，圍繞復享光學的本次參展、在半導體領(lǐng)域的定位及發(fā)展、以及未來的戰(zhàn)略規(guī)劃等焦點話題，進行了專訪解答。
兩大重磅方案來襲
“我們今年主推的產(chǎn)品是ZURO系列光譜儀”，章煒毅告訴集微網(wǎng)，這是專為刻蝕應用場景所研發(fā)的光譜儀，關(guān)鍵性能指標已經(jīng)達到了國際大廠旗艦級產(chǎn)品的水平。
刻蝕是半導體晶圓制造中的三大關(guān)鍵步驟之一，其先進程度決定著晶圓廠生產(chǎn)高級制程產(chǎn)品的能力和芯片的最終性能?？涛g工藝中需要實時監(jiān)控晶圓上鍍膜的厚度、均勻性，還要確定刻蝕的終點，這些都可以通過光譜儀來實現(xiàn)。
復享光學推出的ZURO系列光譜儀匹配了半導體行業(yè)標準，滿足針對金屬刻蝕、單多晶硅刻蝕、化合物刻蝕及高速清洗等多個應用場景需求，具有信號精準、性能長期穩(wěn)定、Fab生產(chǎn)環(huán)境適應等特點。
除具備高靈敏、高信噪比等優(yōu)勢外，ZURO系列的單幀采集最大動態(tài)范圍可突破40000:1，優(yōu)于同類國外產(chǎn)品，能夠有效提取深孔和多晶硅刻蝕過程中的弱信號。章煒毅指出這個特性非常重要，如果產(chǎn)品性能不夠優(yōu)秀，是絕不可能捕捉到這種微弱的信號。
此外，復享光學為ZURO系列光譜儀配備了專門的軟件——ideaEPD。該軟件是一款由復享光學深入客戶應用開發(fā)的Fab工藝專用軟件，支持自定義終點算法、工藝終點分析、高速采樣監(jiān)控、刻蝕深度監(jiān)控等功能，能實現(xiàn)多達10臺腔體的同時監(jiān)控。
“ZURO系列目前有兩個型號，高端的性能可對標國際大廠旗艦產(chǎn)品，另一款配置較低，但可以滿足現(xiàn)在通用的刻蝕場景?！闭聼樢惚硎荆浜蟟deaEPD軟件，ZURO系列實現(xiàn)了覆蓋面最廣的產(chǎn)品陣列，這在國內(nèi)也尚屬首次。
“為了能讓ZURO系列具有優(yōu)異的表現(xiàn)，復享光學在開發(fā)過程中與客戶不斷進行性能的打磨，對關(guān)鍵參數(shù)反復進行硬件調(diào)校，使其能滿足6、8、12英寸制程刻蝕工藝的不同要求。”章煒毅表示，復享光學已完成ZURO系列產(chǎn)品的國產(chǎn)驗證與量產(chǎn)準備，能為客戶進行差異化的定制開發(fā)，解決頭部客戶的關(guān)鍵光學零部件供應安全問題。
除了推出針對核心工藝的解決方案，復享光學還帶來了針對光子芯片、AR/VR等領(lǐng)域的光學檢測系統(tǒng)AR-Meta。
AR-Meta是復享光學面向超構(gòu)透鏡檢測的旗艦產(chǎn)品。超構(gòu)透鏡是隨著微納制程工藝的進步和超構(gòu)表面的研究發(fā)展而誕生的一種新型透鏡，突破了原有材料的物理極限。它由微米或納米結(jié)構(gòu)單元有效排列組成，具有平面化、小型化、集成化等優(yōu)勢，被視為下一代光學模組的核心元件。
2019年，復享光學從超構(gòu)透鏡的設計原理出發(fā)，對其光學檢測過程開展系統(tǒng)性的分析，在“上海市優(yōu)秀技術(shù)帶頭人”項目的支持下，開發(fā)了第一代AR-Meta光學檢測系統(tǒng)，并成功推向市場。經(jīng)過四年的技術(shù)迭代，AR-Meta實現(xiàn)了對三維光場和相位分布全方位的光學檢測，并已形成面向前沿科學研究和晶圓級檢測的系列產(chǎn)品，構(gòu)建了“超構(gòu)透鏡光學檢測的智能化平臺”。
章煒毅指出，AR-Meta平臺的開發(fā)是復享光學在光子芯片領(lǐng)域布局的一環(huán)，其定位就是要成為光子芯片檢測的儀器標準，為優(yōu)化超構(gòu)透鏡的設計、加工工藝提供關(guān)鍵支撐。
深度融入產(chǎn)業(yè)鏈
復享光學深耕微納光電子領(lǐng)域十年，發(fā)展智能化全光譜技術(shù)，著力于光子學與人工智能的融合，形成了國際突出的深度光譜技術(shù)平臺，向市場提供從技術(shù)到產(chǎn)品，從模塊到系統(tǒng)的全面解決方案。本次推出的兩大重磅解決方案，也標志著復享光學在將技術(shù)積累與微納制造產(chǎn)業(yè)相結(jié)合的征途上又更進了一步。
復享光學初入半導體行業(yè)時的定位是只做半導體設備的核心零部件供應商，只是在與行業(yè)聯(lián)系愈發(fā)緊密之后，才走上了升級之路。“頭部客戶不斷提出更嚴格的要求，不斷給與鼓勵，硬是把我們從一個模組廠商變成了解決方案廠商?！闭聼樢惴Q，正是在行業(yè)需求的倒逼之下，復享光學實現(xiàn)了從硬件到解決方案的升級，不僅收獲了客戶的極大信任，也大幅提升了自身的能力。
“在2022年，我們做的很重要的一件事就是改進了生產(chǎn)管理體系和人員組織架構(gòu)，完全匹配了半導體行業(yè)的標準?！闭聼樢阒赋?，復享光學還進一步擴充了產(chǎn)能，即使頭部客戶在同一時間點密集下單，也不會對交付造成風險。
同產(chǎn)業(yè)鏈的深入接觸還帶來難得的新機遇，復享光學發(fā)現(xiàn)光譜檢測在半導體生產(chǎn)中有更多用武之地，“在光刻工藝中，要實現(xiàn)對光源的監(jiān)控，離不開光譜檢測；在薄膜沉積中，需要對等離子體進行光譜監(jiān)控；在高溫退火工藝中，需要非接觸的光譜測溫；另外，在濕法制程里，也需要對液體濃度成份進行光譜監(jiān)控。”
這也讓復享光學堅定了信心，要配合設備廠商解決各類芯片制程工藝控制中的量檢測核心問題，為實現(xiàn)半導體產(chǎn)業(yè)的全鏈突破保駕護航。
章煒毅表示，復享光學在過去的一年穩(wěn)扎穩(wěn)打，實現(xiàn)了兩個“全”的目標。首先是全覆蓋，對半導體工藝中的所有光譜應用場景全面摸底，完成了認知的升級，上述的應用都是在這個過程中被發(fā)掘出來的。第二是全接觸，對供應鏈的頭部設備廠商全面接觸，并且陸續(xù)獲得客戶的積極反饋，逐漸展開深入合作。
自2017年開始進入半導體產(chǎn)業(yè)，從早期的技術(shù)摸索到當前的產(chǎn)業(yè)應用落地，復享光學更加了解這個行業(yè)，并逐漸深入產(chǎn)業(yè)，成為了這個行業(yè)不可或缺的一員。
成就更大夢想
復享光學在2022年走過的路，也是國產(chǎn)半導體設備行業(yè)發(fā)展的一個縮影。在認清了目標和局面之后，整個行業(yè)正在急起直追。
在親自參與到半導體設備國產(chǎn)化的進程中后，復享光學也有了更深刻的認識?！拔覀冇^察到國產(chǎn)化有兩個重要趨勢，一是從以往簡單的零部件替換逐漸提升到對復雜的關(guān)鍵部件的替換，像光學零部件就是其中的一部分?！闭聼樢阏f：“另外一個趨勢就是，從簡單的應急平替逐步轉(zhuǎn)變?yōu)樾阅艹交蛘卟町惢膶崿F(xiàn)?！?/strong>
章煒毅特別指出，“大家都開始冷靜地思考，什么是自己真正想要的，國產(chǎn)化不能只是簡單的平替，最終還是要找到自己的出路。”
隨著制程精度的推進，中國半導體要在制造上實現(xiàn)持續(xù)的突破，檢測的比重將進一步擴大，檢測的精度也將大幅度提升。正是在這種背景下，有著更高維度的、由算法驅(qū)動的深度光譜技術(shù)，開始取代傳統(tǒng)的光學技術(shù)，成為行業(yè)所關(guān)注的焦點。
因此，復享光學一方面為客戶提供設備和技術(shù)支持，以獲得解決方案在晶圓產(chǎn)線上的長期穩(wěn)定性驗證，另一方面，則是不斷與客戶去開發(fā)新的應用場景，以深度光譜技術(shù)解決不同應用場景的檢測訴求。例如，2021年，復享光學下屬的上海微納制程智能檢測工程中心關(guān)注到韓國百層3D NAND進展，深入研究其中的薄膜厚度檢測難點，在國際知名光學期刊Light: Advanced Manufacturing上發(fā)表文章，首次提出薄膜神經(jīng)網(wǎng)絡，為百層3D NAND量測技術(shù)提供了新思路。
不過，復享光學并不滿足于此。“在國產(chǎn)化進程中與知名的國外同行去對標，這點是不會改變的，但是對標本身并不會創(chuàng)造出第二家偉大的企業(yè)”，章煒毅表示，“復享光學希望能走出屬于自己的特色之路?！?/strong>
